本发明提供一种复合隔膜的制备方法，所述制备方法至少包括：首先，提供基体膜，将所述基体膜置于磁控溅射腔体内；然后，以低熔点的聚合物为第一靶材材料，在所述基体膜两侧表面溅射低熔点聚合物涂层；最后，以陶瓷材料为第二靶材材料，在所述聚合物涂层表面溅射陶瓷涂层。该复合隔膜厚度为19‑40μm，孔隙率为40％‑70％，平均孔径为0.1μm‑0.5μm，闭孔温度为80‑160℃，破膜温度为250‑450℃。该方法对设备要求低、成本低廉，适用于大规模工业化连续生产。所制备的复合隔膜具有优越的耐高温性能、热关断性能、良好的电解质润湿性及机械性能。另外，隔膜中的陶瓷涂层与基体材料黏结性能优越，无掉粉现象。