阵列基板及其制造方法、显示面板和显示设备
授权
摘要
本申请公开了一种薄膜晶体管，包括：基底基板(1)；有源层(4)；和第一线性偏振块(2)，其构造为为有源层(4)的至少一部分遮挡光。所述第一线性偏振块(2)在所述基底基板(1)上的投影与所述有源层(4)在所述基底基板(1)上的投影至少部分地重叠。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板及其制造方法、显示面板和显示设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109073944A
申请号 ：
CN201780000173.5
公开（公告）日 ：
2018-12-21
申请日 ：
2017-03-30
授权号 ：
CN109073944B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
江亮亮王海洋郭磊尹傛俊
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
汪源
优先权 ：
CN201780000173.5
主分类号 ：
G02F1/1368
IPC分类号 ：
G02F1/1368 G02F1/1362 G02F1/1335
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
G02F1/1368
其中开关元件为三电极装置
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2019-01-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1368
申请日 : 20170330
申请日 : 20170330
2018-12-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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