防反射材料
授权
摘要
本发明的目的在于提供在具有充分的防反射功能的同时、可防止光源的总光通量降低的防反射材料、及利用该防反射材料密封光半导体元件而成的光半导体装置。本发明提供包含分散有多孔性填料的树脂层的防反射材料，其中，该多孔性填料为在该树脂层的表面形成抑制反射的凹凸，相对于防反射材料总量(100重量％)，多孔性填料的含量为4～40重量％的防反射材料、及利用该防反射材料密封光半导体元件而成的光半导体装置。
基本信息
专利标题 ：
防反射材料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108369985A
申请号 ：
CN201780004775.8
公开（公告）日 ：
2018-08-03
申请日 ：
2017-01-11
授权号 ：
CN108369985B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
高林尚史
申请人 ：
株式会社大赛璐
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京坤瑞律师事务所
代理人 ：
张平元
优先权 ：
CN201780004775.8
主分类号 ：
H01L33/56
IPC分类号 ：
H01L33/56 C08K7/22 C08K7/24 C08L33/06 C08L63/00 C08L83/04 C08L101/00
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法律状态
2022-04-29 ：
授权
2019-02-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 33/56
申请日 : 20170111
申请日 : 20170111
2018-08-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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