具有2个烃基的异氰脲酸衍生物的制造方法

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摘要

本发明的课题在于提供具有2个烃基的异氰脲酸衍生物的新型的制造方法。作为解决手段，为下述具有2个烃基的异氰脲酸衍生物的制造方法，其特征在于，包括下述工序：第一工序，得到下述式(1)表示的化合物；第二工序，由前述式(1)表示的化合物得到下述式(2)表示的化合物；第三工序，由前述式(2)表示的化合物得到下述式(3)表示的化合物；以及，第四工序，由前述式(3)表示的化合物得到下述式(4)表示的化合物(式中，Bn表示苄基，2个R分别表示碳原子数1～10的烃基。)，所有的工序在不超过100℃的温度下进行。

基本信息

专利标题：

具有2个烃基的异氰脲酸衍生物的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN108779081A

申请号：

CN201780016793.8

公开（公告）日：

2018-11-09

申请日：

2017-02-27

授权号：

CN108779081B

授权日：

2022-05-13

发明人：

后藤裕一孙军

申请人：

日产化学株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

马妮楠

优先权：

CN201780016793.8

主分类号：

C07D251/34

IPC分类号：

C07D251/34