聚酰亚胺前体、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜和基板、以及在聚酰亚胺...
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摘要
本发明涉及聚酰亚胺前体和聚酰亚胺，其中，来自四羧酸成分的结构包含至少一种为下述化学式(A‑1)～(A‑4)中的任一者所示的结构的重复单元。(式中，R1、R2、R3各自独立地为‑CH2‑、‑CH2CH2‑、或‑CH＝CH‑。)
(式中，R4为‑CH2‑、‑CH2CH2‑、或‑CH＝CH‑。)
(式中，R5、R6各自独立地为‑CH2‑、‑CH2CH2‑、或‑CH＝CH‑。)
(式中，R7为‑CH2CH2‑、或‑CH＝CH‑。)
基本信息
专利标题 ：
聚酰亚胺前体、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜和基板、以及在聚酰亚胺的制造中使用的四羧酸二酐
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109312071A
申请号 ：
CN201780032695.3
公开（公告）日 ：
2019-02-05
申请日 ：
2017-05-31
授权号 ：
CN109312071B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
冈卓也小滨幸德中川美晴久野信治岩本圭司弘津健二桂良辅安田真治
申请人 ：
宇部兴产株式会社
申请人地址 ：
日本山口县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
崔立宇
优先权 ：
CN201780032695.3
主分类号 ：
C08G73/10
IPC分类号 ：
C08G73/10 C07C69/753 C07D493/04
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G73/00
不包括在C08G12/00到C08G71/00组内的，在高分子主链中形成含氮的键合，有或没有氧或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G73/06
在高分子主链中有含氮杂环的缩聚物；聚酰肼；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08G73/10
聚酰亚胺；聚酯-酰亚胺；聚酰胺-酰亚胺；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺的母体
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2019-03-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 73/10
申请日 : 20170531
申请日 : 20170531
2019-02-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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