对设计布局的计算分析的性能指标进行可视化
授权
摘要

本发明提供一种方法,所述方法包括:获得规定光刻图案的布局的数据;获得所述布局的计算分析的多个性能指标,所述多个性能指标指示执行所述计算分析的相应部分的一台或更多台计算机过程的性能;使所述多个性能指标与在相应性能指标的测量期间处理的所述布局的多个部分相关联;以及基于使所述多个性能指标与在测量期间处理的所述布局的多个部分相关联的结果,产生三维或更高维显像,其中,显像维度中的至少一些维度指示所述布局的多个部分的相对位置,并且显像维度中的至少一些维度指示与相应部分相关联的性能指标。

基本信息
专利标题 :
对设计布局的计算分析的性能指标进行可视化
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109478013A
申请号 :
CN201780043378.1
公开(公告)日 :
2019-03-15
申请日 :
2017-06-23
授权号 :
CN109478013B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
N·潘迪M·C·西蒙
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维德霍温
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
王静
优先权 :
CN201780043378.1
主分类号 :
G03F1/36
IPC分类号 :
G03F1/36  G03F7/20  G06F17/50  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2022-04-01 :
授权
2019-04-09 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/36
申请日 : 20170623
2019-03-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN109478013A.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332