高分辨率全材料菲涅耳波带片阵列及其制造工艺
授权
摘要

本发明涉及一种高分辨率全材料菲涅耳波带片阵列,其包括在公共载体上的复数个全材料菲涅耳波带片。还涉及通过提供包括多个微柱的公共载体和将至少两种不同材料的交替层沉积到至少某些微柱上以制造全材料菲涅耳波带片前体阵列的工艺。还涉及用于生产高分辨率全材料菲涅耳波带片(FZP)阵列的装置;该用于生产高分辨率全材料菲涅耳波带片阵列的装置包括用于在公共载体中提供复数个微柱的第一装置、将至少两种不同材料的交替层施加到布置在公共载体上的至少一些微柱上的沉积装置以及切片装置,该切片装置将全材料菲涅耳波带片从柱中切出。

基本信息
专利标题 :
高分辨率全材料菲涅耳波带片阵列及其制造工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109642966A
申请号 :
CN201780049606.6
公开(公告)日 :
2019-04-16
申请日 :
2017-08-11
授权号 :
CN109642966B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
乌穆特·腾卡·桑利吉泽拉·许茨卡拉曼·凯斯金博拉焦成革
申请人 :
马克斯-普朗克科学促进学会
申请人地址 :
德国慕尼黑
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
郝传鑫
优先权 :
CN201780049606.6
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18  C23C16/455  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-04-08 :
授权
2019-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20170811
2019-04-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN109642966A.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332