具有受保护羰基基团的光引发剂

授权

摘要

本发明公开了由下式表示的受保护光引发剂：其中芳基¹为芳族或杂芳族环；芳基²为芳族环；每个R¹为烷基、芳基、供电子基团或吸电子基团，并且下标a为0至3；每个R²为烷基、芳基、供电子基团或吸电子基团，并且下标b为0至3；Prot为受保护羰基基团。

基本信息

专利标题：

具有受保护羰基基团的光引发剂

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN109843861A

申请号：

CN201780063650.2

公开（公告）日：

2019-06-04

申请日：

2017-10-09

授权号：

CN109843861B

授权日：

2022-05-13

发明人：

K·A·福尔普周世宏P·J·霍姆尼克A·S·阿比尔雅曼龚涛J·D·奥克斯曼W·S·马奥尼

申请人：

3M创新有限公司

申请人地址：

美国明尼苏达州

代理机构：

北京市金杜律师事务所

代理人：

李勇

优先权：

CN201780063650.2

主分类号：

C07D317/26

IPC分类号：

C07D317/26 A61K6/00 A61K6/083 C07D319/06