光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法

授权

摘要

光学系统(LS)具备满足以下条件式的透镜(L22、L33)：νdLZ<35.0、0.702<θgFLZ+(0.00316×νdLZ)其中，νdLZ：透镜的以d线为基准的阿贝数θgFLZ：透镜的相对部分色散，在设透镜的对g线的折射率为ngLZ、设透镜的对F线的折射率为nFLZ、设透镜的对C线的折射率为nCLZ时，通过下式被定义，θgFLZ＝(ngLZ‑nFLZ)/(nFLZ‑nCLZ)。

基本信息

专利标题：

光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111512203A

申请号：

CN201780097705.1

公开（公告）日：

2020-08-07

申请日：

2017-12-15

授权号：

CN111512203B

授权日：

2022-04-12

发明人：

山下雅史伊藤智希籔本洋山本浩史三轮哲史坪野谷启介槙田步上原健

申请人：

株式会社尼康

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

季莹

优先权：

CN201780097705.1

主分类号：

G02B13/00

IPC分类号：

G02B13/00 G02B13/02 G02B13/04 G02B15/20