含环氧基异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干...
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摘要

本发明提供含环氧基的异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法。一种包含在分子中含有环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂的光敏树脂组合物,其易于形成具有高透明性、耐光性和耐热性的树脂涂层,适应微加工,并且对于光学器件的保护和封装应用而言是有用的。涂层可以以厚膜形式加工,以限定具有精细尺寸和垂直度的图案,并且变成固化涂层,该固化涂层具有改进的对基底、电子部件、半导体器件和电路板支撑件的粘附性、机械性能、电绝缘性和抗开裂性,且作为绝缘保护膜是可靠的。

基本信息
专利标题 :
含环氧基异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109422881A
申请号 :
CN201810998756.8
公开(公告)日 :
2019-03-05
申请日 :
2018-08-30
授权号 :
CN109422881B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
林久美子丸山仁近藤和纪加藤英人
申请人 :
信越化学工业株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
刘强
优先权 :
CN201810998756.8
主分类号 :
C08G77/388
IPC分类号 :
C08G77/388  G03F7/004  H01L21/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G77/00
在高分子主链中形成含硅键合,有或没有硫、氮、氧,或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G77/04
聚硅氧烷
C08G77/38
通过化学后处理改性的聚硅氧烷
C08G77/382
含碳、氢、氧或硅之外的原子的
C08G77/388
含氮的
法律状态
2022-04-19 :
授权
2020-09-01 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 77/388
申请日 : 20180830
2019-03-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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