用于抛光中选择性去除氮化物的含水阴离子官能二氧化硅浆料和...
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摘要
本发明提供一种含水化学机械平坦化抛光(CMP抛光)组合物，其包含一种或多种多个细长、弯曲或结节状阴离子官能胶态二氧化硅颗粒分散体或其与一种或多种阴离子官能球形胶态二氧化硅颗粒分散体的混合物、具有低于5的等电点(PI)的一种或多种胺羧酸(优选地酸性氨基酸或吡啶酸)以及优选地具有C6到C16烷基、芳基或烷芳基疏水基团的一种或多种乙氧基化阴离子表面活性剂，其中所述组合物具有3到5的pH。所述组合物在抛光中实现良好的氮化硅去除和氮化物与氧化物的选择性去除。
基本信息
专利标题 ：
用于抛光中选择性去除氮化物的含水阴离子官能二氧化硅浆料和胺羧酸组合物及其使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109575815A
申请号 ：
CN201811017096.7
公开（公告）日 ：
2019-04-05
申请日 ：
2018-08-31
授权号 ：
CN109575815B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
N·K·彭塔
申请人 ：
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
陈哲锋
优先权 ：
CN201811017096.7
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2019-04-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20180831
申请日 : 20180831
2019-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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