一种高通量光学层析成像方法及成像系统
授权
摘要
本发明公开了一种高通量光学层析成像方法及成像系统,方法包括将光束调制成能够在物镜的焦平面聚焦并能够在物镜的离焦面发散的调制光束,该调制光束在物镜的焦平面具有不完全相同的调制强度;对调制光束照明下的样本在不同像素下进行成像,获取不同像素下的样本图像;将不同像素下的样本图像通过解调算法解调获取样本图像的焦平面图像;系统包括光束调制模块、成像模块及解调模块。本发明通过具有不完全相同的调制强度的光束进行照明,并基于同一样本在不同的像素下进行成像后,采用较简便的解调算法得到焦面图像;其简化了结构光重建算法、提高了重建效率,并提高了大尺寸样本的成像速度。
基本信息
专利标题 :
一种高通量光学层析成像方法及成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111122568A
申请号 :
CN201811297110.3
公开(公告)日 :
2020-05-08
申请日 :
2018-11-01
授权号 :
CN111122568B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
骆清铭袁菁钟秋园金锐龚辉
申请人 :
华中科技大学苏州脑空间信息研究院
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区若水路388号H211
代理机构 :
武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
黄君军
优先权 :
CN201811297110.3
主分类号 :
G01N21/84
IPC分类号 :
G01N21/84 G01N21/64 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2022-04-22 :
授权
2020-06-02 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/84
申请日 : 20181101
申请日 : 20181101
2020-05-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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