一种负极极片及其制备方法和锂离子电池
授权
摘要
本发明提供一种负极极片，包括集流体、硅‑石墨烯涂层，所述硅‑石墨烯涂层包括硅层和石墨烯层，所述硅层与所述集流体直接接触，所述硅‑石墨烯涂层涂覆在集流体的两面，所述硅‑石墨烯涂层的孔隙率为27%‑33%，大的孔隙率可实现电池的快速充电还可改善充放电中硅的体积膨胀。此外，本发明还提供了制备这种负极极片的方法，以及采用此负极极片组装成的锂离子电池，该电池可进行大电流充电，且有着好的循环性能和高的电池容量。
基本信息
专利标题 ：
一种负极极片及其制备方法和锂离子电池
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111180657A
申请号 ：
CN201811339192.3
公开（公告）日 ：
2020-05-19
申请日 ：
2018-11-12
授权号 ：
CN111180657B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
何珍梁超宇刘卫平
申请人 ：
惠州比亚迪电子有限公司
申请人地址 ：
广东省惠州市大亚湾经济技术开发区响水河
代理机构 ：
北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
董琳
优先权 ：
CN201811339192.3
主分类号 ：
H01M4/04
IPC分类号 ：
H01M4/04 H01M4/133 H01M4/134 H01M4/36 H01M4/38 H01M4/583 H01M10/0525 H01M4/02
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2020-07-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01M 4/04
申请日 : 20181112
申请日 : 20181112
2020-05-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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