聚酰亚胺膜及其制备方法
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摘要

本发明公开了一种聚酰亚胺膜的制备方法,其包括:抛光浇铸体的表面;将前驱体浇铸在所述浇铸体的抛光表面上,并干燥,以产生凝胶片;并对所述凝胶片进行热处理以制备聚酰亚胺薄膜,其中,所述浇铸体的抛光表面粗糙度为0.1~160nm;当浇铸前驱体的浇铸体的面积被分割为1cm×1cm时,其落在缺陷减少区域的面积至少为90%,所述缺陷减少区域是指满足条件的区域,所述条件为在1cm×1cm分割区域中,第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的数量分别至多为10,至多为5,至多为3和为0,所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的宽度为0.3~3μm,深度为0.5~5μm,长度分别为至少2μm至小于3μm,至少3μm至小于5μm,至少5μm至小于10μm,至少10μm;所述聚酰亚胺膜的黄色指数至多为3,雾度至多为1%,透光率至少为88%,模量至少为5.0GPa,表面硬度至少为HB。

基本信息
专利标题 :
聚酰亚胺膜及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110177825A
申请号 :
CN201880007053.2
公开(公告)日 :
2019-08-27
申请日 :
2018-02-05
授权号 :
CN110177825B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
金善焕李辰雨吴大成郑多宇金圭勋
申请人 :
SKC株式会社
申请人地址 :
韩国京畿道
代理机构 :
上海弼兴律师事务所
代理人 :
薛琦
优先权 :
CN201880007053.2
主分类号 :
C08G73/14
IPC分类号 :
C08G73/14  C08G73/10  C08J5/18  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G73/00
不包括在C08G12/00到C08G71/00组内的,在高分子主链中形成含氮的键合,有或没有氧或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G73/06
在高分子主链中有含氮杂环的缩聚物;聚酰肼;聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08G73/10
聚酰亚胺;聚酯-酰亚胺;聚酰胺-酰亚胺;聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺的母体
C08G73/14
聚酰胺-酰亚胺
法律状态
2022-05-10 :
授权
2019-09-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 73/14
申请日 : 20180205
2019-08-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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