被配置为用于增强的真空紫外(VUV)光谱辐射通量的设备以...
授权
摘要
描述一种电荷控制设备，用于控制真空腔室中的基板上的电荷。所述设备包括光源、镜及镜支撑件。光源发射具有发散度的辐射束。镜被配置为反射辐射束，其中弯曲的镜的镜表面的曲率被配置为减小辐射束的发散度。镜支撑件被配置为可旋转地支撑弯曲的镜，其中镜的旋转改变辐射束的方向。
基本信息
专利标题 ：
被配置为用于增强的真空紫外(VUV)光谱辐射通量的设备以及具有该设备的系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110291610A
申请号 ：
CN201880011461.5
公开（公告）日 ：
2019-09-27
申请日 ：
2018-02-08
授权号 ：
CN110291610B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
格奥尔·约斯特路德威格·里德尔伯纳德·G·穆勒乔治·特曾
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201880011461.5
主分类号 ：
H01J37/02
IPC分类号 ：
H01J37/02 H01J37/28
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-12-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/02
申请日 : 20180208
申请日 : 20180208
2019-09-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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