用于制备釉面陶瓷体的方法
授权
摘要
本发明涉及一种用于制备釉面陶瓷体的方法，其中(a)将上釉材料施加到非致密烧结的基底材料，并且(b)在从第一温度T1到高于所述第一温度的第二温度T2延伸的温度范围使所述基底材料和所述上釉材料经受热处理，以获得釉面体，其中，在所述温度T1下，所述上釉材料的粘度大于102.5Pa·s，特别是大于104.0Pa·s，优选大于105.6Pa·s，并且特别优选大于107.0Pa·s，并且在所述温度T2下，所述上釉材料的粘度小于109Pa·s，特别是小于107Pa·s，并且优选小于105.6Pa·s。本发明还涉及上釉材料用于对非致密烧结的基底材料上釉的用途。
基本信息
专利标题 ：
用于制备釉面陶瓷体的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110291058A
申请号 ：
CN201880011723.8
公开（公告）日 ：
2019-09-27
申请日 ：
2018-03-23
授权号 ：
CN110291058B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
F·罗斯布鲁斯特R·亨斯特S·克若里柯威斯基C·里茨伯格D·塔乌基
申请人 ：
义获嘉伟瓦登特公司
申请人地址 ：
列支敦士登沙恩
代理机构 ：
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 ：
郭广迅
优先权 ：
CN201880011723.8
主分类号 ：
C04B41/86
IPC分类号 ：
C04B41/86 C03C8/02 A61C13/083
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C04
水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料
C04B
石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如：砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
C04B41/00
砂浆、混凝土、人造石或陶瓷的后处理；天然石的处理
C04B41/80
仅对陶瓷的
C04B41/81
涂覆或浸渍
C04B41/85
用无机材料
C04B41/86
釉料；冷釉料
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2019-10-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C04B 41/86
申请日 : 20180323
申请日 : 20180323
2019-09-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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