液晶元件的制造方法以及液晶取向剂
授权
摘要

本发明通过以下方法来制造液晶元件,所述方法包括:在第1基板及第2基板的各基板上涂布液晶取向剂的步骤;在涂布液晶取向剂后对第1基板及第2基板进行加热的步骤;以及在加热之后,将第1基板与第2基板以涂布有液晶取向剂的面相对的方式相向配置从而构筑液晶单元的步骤,且液晶取向剂含有具有通过加热而脱离的热脱离性基的化合物,在对基板进行加热的步骤中,实施对第1基板及第2基板中的一个基板,以较另一个基板更高的温度进行加热的高温加热处理。

基本信息
专利标题 :
液晶元件的制造方法以及液晶取向剂
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110462502A
申请号 :
CN201880018513.1
公开(公告)日 :
2019-11-15
申请日 :
2018-05-07
授权号 :
CN110462502B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
登政博
申请人 :
JSR株式会社
申请人地址 :
日本东京港区东新桥一丁目9番2号
代理机构 :
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 :
杨文娟
优先权 :
CN201880018513.1
主分类号 :
G02F1/1337
IPC分类号 :
G02F1/1337  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1337
液晶分子的表面诱导取向,例如借助列向层
法律状态
2022-05-17 :
授权
2019-12-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1337
申请日 : 20180507
2019-11-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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