酞菁系化合物、及其用途

授权

摘要

提供在近红外区域具有强吸收、且可见光区域的吸收非常小、耐久性高、在有机溶剂、树脂中的溶解性良好的新型酞菁化合物、其制造方法、中间体及其用途。通式(1)表示的酞菁系化合物。式(1)中，R表示烷基、芳基，X表示氢原子、卤素原子、烷基，可以彼此键合而形成芳香环。M表示两个氢原子、2价金属或者3价或4价的金属衍生物，n表示3～6的整数。

基本信息

专利标题：

酞菁系化合物、及其用途

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110494501A

申请号：

CN201880023510.7

公开（公告）日：

2019-11-22

申请日：

2018-04-06

授权号：

CN110494501B

授权日：

2022-04-19

发明人：

高坂明宏佐佐木浩之熊谷洋二郎

申请人：

山本化成株式会社

申请人地址：

日本大阪府

代理机构：

北京市金杜律师事务所

代理人：

杨宏军

优先权：

CN201880023510.7

主分类号：

C09B47/12

IPC分类号：

C09B47/12 C09K3/00 G02B5/22 C09B47/073