一种测量与结构形成过程有关的感兴趣参数(例如，套刻)的n个值的方法，其中n＞1。该方法包括：对n+1个目标中的每一个执行n个测量，每个测量利用具有不同波长和/或偏振组合的测量辐射来执行；以及从n+1个目标的n个测量中确定感兴趣参数的n个值，n个值中的每一个与针对不同成对的层的感兴趣参数有关。每个目标包括n+1个层，每个层包括周期性结构，目标包括具有利用相对于其他层的位置偏差形成的至少一个偏置周期性结构的至少n个偏置目标，在每个偏置目标中偏置周期性结构位于各层的至少一个不同层中。还公开了一种具有这样的目标的衬底以及一种用于形成这样的目标的图案化装置。