偏二氟乙烯系树脂膜
授权
摘要
本发明提供一种偏二氟乙烯系树脂膜，其虽然是光泽度低的哑光色调，但雾度低，下层的装饰膜的图案等的视觉辨认性高。偏二氟乙烯系树脂膜，其是含有交联丙烯酸酯系树脂粒子的偏二氟乙烯系树脂膜，前述交联丙烯酸酯系树脂粒子具有相对于前述偏二氟乙烯系树脂膜的厚度而言为5％以上且40％以下的平均粒径，前述偏二氟乙烯系树脂膜的算术平均表面粗糙度(Ra)为0.4μm以上且小于2μm。
基本信息
专利标题 ：
偏二氟乙烯系树脂膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110662792A
申请号 ：
CN201880033660.6
公开（公告）日 ：
2020-01-07
申请日 ：
2018-05-31
授权号 ：
CN110662792B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
永冈洪太泽里正高野敬司
申请人 ：
电化株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
杨宏军
优先权 ：
CN201880033660.6
主分类号 ：
C08J5/18
IPC分类号 ：
C08J5/18 B32B27/30
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/18
薄膜或片材的制造
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2020-02-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08J 5/18
申请日 : 20180531
申请日 : 20180531
2020-01-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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