用于处理颗粒的设备，该设备包括：通过两端的端壁(8，9)和圆形壁(13)限定的涡流室(1)；包括沿着大体切线方向布置的流体进给装置(17)的旋转施力设备(15)；颗粒出口(19)；以及中心流体出口(21)；该设备还包括：与所述涡流室(1)同轴地布置的限定处理区(27)的辅助室(25)，该辅助室(25)具有圆形外壁(28)和端壁(29)，并且通过与所述中心流体出口(21)相对的所述涡流室(1)的所述端壁(9)中的开口(30)通向所述涡流室(1)；用于将颗粒(57)同轴地注射至所述处理区(27)中的设备(33)；以及用于将处理流体沿着大体轴向方向进给至所述处理区(27)中的设备(35)；其中，所述开口(30)的所述面积与所述涡流室(1)的所述横截面面积的所述比值小于0.50。