聚四氟乙烯多孔膜
授权
摘要
本公开的聚四氟乙烯多孔膜(20)具有0.03～0.2μm的平均孔径和大于25％且为90％以下的孔隙率。与厚度方向平行的截面中的宽度23μm×厚度1μm的区域内存在的细孔的数量处于40～120个的范围。聚四氟乙烯多孔膜(20)由具有200～1200万的范围的数均分子量的聚四氟乙烯构成，每单位厚度的刺穿强度处于5.0～15gf/μm的范围。
基本信息
专利标题 ：
聚四氟乙烯多孔膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110691811A
申请号 ：
CN201880036006.0
公开（公告）日 ：
2020-01-14
申请日 ：
2018-05-31
授权号 ：
CN110691811B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
井上健郎
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN201880036006.0
主分类号 ：
C08J9/00
IPC分类号 ：
C08J9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J9/00
高分子物质加工成多孔或蜂窝状制品或材料：它们的后处理
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2020-02-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08J 9/00
申请日 : 20180531
申请日 : 20180531
2020-01-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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