喷头倾斜机构
授权
摘要
提供了一种喷头倾斜调节机构，其在半导体衬底处理装置的顶板中支撑喷头模块，该喷头倾斜调节机构包括差动螺丝，该差动螺丝提供粗调和微调，以调节喷头模块的面板的相对于与半导体衬底处理装置中的面板相邻的衬底基座模块的上表面的间隙/倾斜/平坦度。
基本信息
专利标题 ：
喷头倾斜机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110997976A
申请号 ：
CN201880050579.9
公开（公告）日 ：
2020-04-10
申请日 ：
2018-07-16
授权号 ：
CN110997976B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
罗彬蒂莫西·斯科特·托马斯达明·斯莱文大卫·坎普
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
樊英如
优先权 ：
CN201880050579.9
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 H01L21/306 H01L21/02 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-08-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20180716
申请日 : 20180716
2020-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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