生成结构光
授权
摘要

结构光投影系统包括发光器件的阵列,其被配置成发射光的图案。投影透镜被配置成从阵列接收光的图案并将其投影到第一光学元件。第一光学元件改变光的图案以产生不规则的光的第一发射图案。光的第一发射图案被传输到第二光学元件,第二光学元件被配置成接收光的第一图案并沿着第二发射图案再现第一发射图案,第二发射图案包括以平铺图案排列的第一发射图案的多个实例。

基本信息
专利标题 :
生成结构光
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111065886A
申请号 :
CN201880056228.9
公开(公告)日 :
2020-04-24
申请日 :
2018-07-18
授权号 :
CN111065886B
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
德米特里·巴金马尔库什·罗西
申请人 :
艾迈斯传感器新加坡私人有限公司
申请人地址 :
新加坡宏茂桥
代理机构 :
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 :
周丹
优先权 :
CN201880056228.9
主分类号 :
G01B11/25
IPC分类号 :
G01B11/25  G02B27/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/25
通过在物体上投影一个图形,例如莫尔条纹
法律状态
2022-05-06 :
授权
2021-11-16 :
著录事项变更
IPC(主分类) : G01B 11/25
变更事项 : 申请人
变更前 : 艾迈斯传感器新加坡私人有限公司
变更后 : ams传感器新加坡私人有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 新加坡宏茂桥
变更后 : 新加坡宏茂桥
2020-07-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/25
申请日 : 20180718
2020-04-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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