相位差观察装置及细胞处理装置
授权
摘要
本发明提供一种通过无需追加拍摄部结构而能够将装置小型化,且能够抑制因弯液面造成的相位差图像劣化的相位差观察装置。本发明的相位差观察装置特征在于包含光源;照明光学系统,将来自所述光源的照明光导光至细胞培养容器内的被观察体;成像光学系统,将所述被观察体的光学像成像至摄像元件;控制单元;所述照明光学系统包含改变所述照明光的强度分布的空间调制元件,所述控制单元包含将所述成像光学系统相对于所述细胞培养容器的位置和在所述成像光学系统的位置上的照明光的强度分布相关联的强度分布校正信息,获取作为所述成像光学系统位置的成像系统位置信息,并基于所述成像系统位置信息及所述强度分布校正信息,改变所述空间调制元件上照明光的强度分布。
基本信息
专利标题 :
相位差观察装置及细胞处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111164487A
申请号 :
CN201880061704.6
公开(公告)日 :
2020-05-15
申请日 :
2018-08-17
授权号 :
CN111164487B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
本田翔一松本潤一森下忠夫
申请人 :
株式会社片冈制作所
申请人地址 :
日本京都府
代理机构 :
北京北翔知识产权代理有限公司
代理人 :
苏萌
优先权 :
CN201880061704.6
主分类号 :
G02B21/14
IPC分类号 :
G02B21/14 C12M1/34 G02B21/26 G02B21/36 G02B27/52
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
G02B21/06
试样的照明装置
G02B21/08
聚光镜
G02B21/14
供相衬观察照明的
法律状态
2022-04-15 :
授权
2020-06-09 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 21/14
申请日 : 20180817
申请日 : 20180817
2020-05-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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