复制的改进以及相关方法和装置，特别是用于最小化不对称形式...
授权
摘要
本方法涉及通过复制制造装置，其中装置中的每一个包括装置表面。该方法包括使用复制工具(1)通过复制由复制材料生产装置，其中复制工具(1)包括工具材料，工具材料包括复制位点(4)，复制位点(4)各自包括复制表面(5)。复制表面(5)中的每一个对应于装置的各自一个的装置表面的负片。除了复制位点之外，工具材料包括一个或多个缓解特征(7)，用于减少装置表面的不对称形式误差。还描述了用于制造这些的复制工具(1)和方法。
基本信息
专利标题 ：
复制的改进以及相关方法和装置，特别是用于最小化不对称形式误差
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111246989A
申请号 ：
CN201880067747.5
公开（公告）日 ：
2020-06-05
申请日 ：
2018-07-17
授权号 ：
CN111246989B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
余启川伍寒妮托比亚斯·桑约翰·A·维达隆拉蒙·奥珀达阿蒂利奥·费拉里哈穆特·鲁德曼马丁·舒伯特
申请人 ：
赫普塔冈微光有限公司
申请人地址 ：
新加坡林地环
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
张燕
优先权 ：
CN201880067747.5
主分类号 ：
B29C59/02
IPC分类号 ：
B29C59/02 G03F7/00 B29C39/26 B29D11/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B29
塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工
B29C
塑料的成型连接；塑性状态材或料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整
B29C59/00
表面成型，如压花；所用的设备
B29C59/02
用机械方法，如压制
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2020-09-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B29C 59/02
申请日 : 20180717
申请日 : 20180717
2020-06-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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