用于减少气泡对还原剂质量测量的影响的系统和方法
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摘要
本申请涉及用于减少气泡对还原剂质量测量的影响的系统和方法。一种用于减少气泡对由还原剂质量传感器进行的还原剂质量测量的影响的护套，包括：护套主体，其界定内部体积，还原剂质量传感器可至少部分地插入该内部体积中；第一流动路径，其穿过护套主体的第一部分被界定，该第一流动路径构建成允许还原剂进入内部体积，同时抑制气泡进入内部体积；和第二流动路径，其穿过护套主体的第二部分被界定，第二流动路径构建成允许还原剂离开内部体积，同时抑制气泡进入内部体积。
基本信息
专利标题 ：
用于减少气泡对还原剂质量测量的影响的系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111474295A
申请号 ：
CN201910070078.3
公开（公告）日 ：
2020-07-31
申请日 ：
2019-01-24
授权号 ：
CN111474295B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
郭子旭辛后杰郑晓阳马立卡军·孔达刘涛李治国赵怀志户俊立王波
申请人 ：
康明斯排放处理公司
申请人地址 ：
美国印第安纳州
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
汤慧华
优先权 ：
CN201910070078.3
主分类号 ：
G01N33/00
IPC分类号 ：
G01N33/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N33/00
利用不包括在G01N1/00至G01N31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-08-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 33/00
申请日 : 20190124
申请日 : 20190124
2020-07-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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