一种多涂层红外辐射敏感的阳图型平版印刷版前体及形成图像的...
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摘要
本发明提供了一种红外辐射敏感的阳图型平版印刷版前体，所述的平版印刷版前体包含:（a）底基、（b）覆盖在底基上方的内涂层、（c）覆盖在内涂层上方的外涂层。所述的内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体的重复单元并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P，其中马来酰亚胺除外的其它重复单元衍生自酸度系数pKa大于8的可聚合单体；所述的外涂层包含一种红外辐射吸收化合物和不同于内涂层的另一种聚合物粘合剂Q。如此设计使得该平版印刷版前体不仅可对最大波长为700~1200 nm的辐射敏感，而且所制成的可成像印版前体还对化学溶剂具有良好的耐抗性，在使用过程中不易发生被印刷化学品侵蚀、溶解的现象，从而有利于延长平版印刷版的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种多涂层红外辐射敏感的阳图型平版印刷版前体及形成图像的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110007564A
申请号 ：
CN201910086321.0
公开（公告）日 ：
2019-07-12
申请日 ：
2019-01-29
授权号 ：
CN110007564B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
陶烃翁银巧高邈徐能平应作挺葛功达马显瑶王林勇
申请人 ：
浙江康尔达新材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省温州市工业园区机场大道929号
代理机构 ：
温州瓯越专利代理有限公司
代理人 ：
王庭辉
优先权 ：
CN201910086321.0
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 G03F7/004 G03F7/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2019-08-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20190129
申请日 : 20190129
2019-07-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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