液晶显示装置的制造方法
授权
摘要
本发明提供一种低余像且视角特性及显示对比度提高的高品质液晶显示装置的制造方法。该液晶显示装置的特征在于，其具有：具备像素电极和TFT且在像素上方形成有取向膜的TFT基板、和与所述TFT基板相对配置且在所述TFT基板侧的最外表面上形成有取向膜的对置基板，在所述TFT基板的取向膜与所述对置基板的取向膜之间夹持有液晶，所述取向膜是能够通过偏振光照射而赋予液晶取向限制力的材料，所述光取向膜的最外表面层具有液晶取向限制力，并且在所述光取向膜中几乎不存在光学各向异性。
基本信息
专利标题 ：
液晶显示装置的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110161759A
申请号 ：
CN201910287160.1
公开（公告）日 ：
2019-08-23
申请日 ：
2015-09-30
授权号 ：
CN110161759B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
今西泰雄
申请人 ：
株式会社日本显示器
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
杨宏军
优先权 ：
CN201910287160.1
主分类号 ：
G02F1/1337
IPC分类号 ：
G02F1/1337
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1337
液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-09-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1337
申请日 : 20150930
申请日 : 20150930
2019-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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