光学表面微轮廓二维直接成像制造及光学表面平整修形方法
授权
摘要
本发明公开了一种光学表面微轮廓二维直接成像制造及光学表面平整修形方法，包括以下步骤：S1：基板抛光；S2：基板面形检测；S3：图形生成：通过目标轮廓形貌数据，得到需要去除的待加工量；S4：参数转换：将待加工量数据转化为逐点曝光的时间数据；S5：二维曝光：在基板上涂敷光刻胶并进行曝光；S6：显影固化：将曝光的基板进行显影处理后，在光刻胶表面获得与待加工量匹配的轮廓图形；S7：刻蚀传递：将光刻胶表面的轮廓刻蚀传递到基板表面。本发明基于直接图形发生器的图案自由设计、微米级的定位精度和分辨率、二维面阵的高速加工效率，并通过显影技术和刻蚀技术准确传递形成表面微轮廓，具有成本低、效率高、精度高和图形变动灵活等优点。
基本信息
专利标题 ：
光学表面微轮廓二维直接成像制造及光学表面平整修形方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109946922A
申请号 ：
CN201910327363.9
公开（公告）日 ：
2019-06-28
申请日 ：
2019-04-23
授权号 ：
CN109946922B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
马颖鏖
申请人 ：
马颖鏖
申请人地址 ：
上海市徐汇区天钥桥路380弄37号2105室
代理机构 ：
上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
袁亚军
优先权 ：
CN201910327363.9
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2019-07-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20190423
申请日 : 20190423
2019-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
