一种光学透明有机硅材料及其制备方法

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摘要

本发明涉及有机高分子材料领域，为了解决目前未经改性的光学透明有机硅材料机械力学性能较差，制备中固化时间较长、或者能耗高等问题，以及现有UV固化高分子材料组成较复杂成本较高，不便于工业化这些问题，本发明提出一种光学透明有机硅材料及其制备方法，通过采用超支化乙烯基聚碳硅烷与巯基硅树脂经thiol‑ene点击反应，经UV固化获得材料机械力学性能和热稳定性良好的光学透明有机硅材料，在400‑800nm光波范围内透光率＞95%，拉伸强度0.4‑2.1MPa，硬度在B‑9H范围内可控，热分解温度285‑385℃，水接触角96.5‑106.5°，可弯曲。制备方法中不需使用光引发剂和稀释剂和各种助剂，材料组成简单，节约成本，便于工业化。

基本信息

专利标题：

一种光学透明有机硅材料及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111100298A

申请号：

CN201910341574.8

公开（公告）日：

2020-05-05

申请日：

2019-04-25

授权号：

CN111100298B

授权日：

2022-05-27

发明人：

杨雄发吴于飞刘江玲焦晓皎程飞来国桥

申请人：

杭州师范大学

申请人地址：

浙江省杭州市余杭区余杭塘路2318号

代理机构：

杭州杭诚专利事务所有限公司

代理人：

王江成

优先权：

CN201910341574.8

主分类号：

C08G77/42

IPC分类号：

C08G77/42