基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法
授权
摘要
本发明提出一种基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：两个相互垂直且相位差90°的偶极子组成的虚拟旋转场天线置于4π聚焦系统的焦平面中心，使所述虚拟旋转场天线辐射的电磁场被两个相对的高数值孔径透镜完全会聚并准直到光瞳平面上；步骤S2：所述两个相对的高数值孔径透镜将两束相差180°的入射场聚焦到其光学焦平面上。本发明方法所产生的“8”字型光学焦场的强度分布随着时间在焦平面上围绕光轴以圆频率ω旋转。该旋转光焦场在粒子旋转，粒子加速和近场扫描光学显微镜等方面有重要的应用价值。
基本信息
专利标题 ：
基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109976065A
申请号 ：
CN201910352567.8
公开（公告）日 ：
2019-07-05
申请日 ：
2019-04-29
授权号 ：
CN109976065B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
余燕忠林雪华
申请人 ：
泉州师范学院
申请人地址 ：
福建省泉州市丰泽区东海大街398号
代理机构 ：
福州元创专利商标代理有限公司
代理人 ：
蔡学俊
优先权 ：
CN201910352567.8
主分类号 ：
G02F1/29
IPC分类号 ：
G02F1/29
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/29
用于光束的位置或方向的控制，即偏转
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2019-07-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/29
申请日 : 20190429
申请日 : 20190429
2019-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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