阵列基板、显示装置和掩模板
授权
摘要
提供一种阵列基板、显示装置和掩模板。该阵列基板包括：像素限定层，像素限定层具有贯穿像素限定层的第一开口、第二开口和第三开口，第一开口、第二开口和第三开口中每两个彼此相邻；第一开口和第二开口之间的最小距离小于第一开口和第三开口之间的最小距离；像素限定层包括被配置为限定第一开口的第一开口限定部、被配置为限定第二开口的第二开口限定部和被配置为限定第三开口的第三开口限定部；第一开口限定部的位于第一开口和第二开口之间的部分的坡度角与第三开口限定部的坡度角之比和第二开口限定部的位于第一开口和第二开口之间的部分的坡度角与第三开口限定部的坡度角之比中的至少之一为0.8‑1.25，可减小第一像素限定部的坡度角。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板、显示装置和掩模板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112018147A
申请号 ：
CN201910394681.7
公开（公告）日 ：
2020-12-01
申请日 ：
2019-05-13
授权号 ：
CN112018147B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
杨倩皇甫鲁江刘利宾
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
焦玉恒
优先权 ：
CN201910394681.7
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L21/77 G03F1/38
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-12-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/32
申请日 : 20190513
申请日 : 20190513
2020-12-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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