一种实现喷墨打印均匀图案阵列的方法
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摘要

本发明属于喷墨打印技术领域,公开了一种实现喷墨打印均匀图案阵列的方法。将玻璃基板经预处理后旋涂一层聚合物溶液,紫外光固化得到聚合物薄膜;所述聚合物薄膜与后续喷墨打印墨水的溶剂相溶;将喷墨打印墨水在上述聚合物薄膜上喷墨打印均匀墨滴阵列,退火处理后自然冷却,得到均匀图案阵列。本发明通过在喷墨打印前预先制备一层聚合物薄膜,利用喷墨打印过程中的“咖啡环”效应,可以得到高精细均匀图案阵列,突破了传统制备方法的极限,且获得的图案阵列具有良好的可重复性、均匀性。

基本信息
专利标题 :
一种实现喷墨打印均匀图案阵列的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110614863A
申请号 :
CN201910841335.9
公开(公告)日 :
2019-12-27
申请日 :
2019-09-06
授权号 :
CN110614863B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
宁洪龙陈建秋姚日晖梁宏富张观广张旭梁志豪邱斌黎群杰彭俊彪
申请人 :
华南理工大学
申请人地址 :
广东省广州市天河区五山路381号
代理机构 :
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 :
罗啸秋
优先权 :
CN201910841335.9
主分类号 :
B41M5/00
IPC分类号 :
B41M5/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B41
印刷;排版机;打字机;模印机
B41M
印刷、复制、标记或拷贝工艺;彩色印刷
B41M5/00
复制或标记方法;供其使用的单张材料
法律状态
2022-05-24 :
授权
2020-01-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B41M 5/00
申请日 : 20190906
2019-12-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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