一种超厚胶膜的平坦化处理方法
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摘要

本发明公开了一种超厚胶膜的平坦化处理方法,具体包括如下步骤:101)初步喷涂步骤、102)涂胶步骤、103)制备胶膜步骤和104)制备超厚胶膜步骤;本发明提供具有超厚保护膜、且成品率高的一种超厚胶膜的平坦化处理方法。

基本信息
专利标题 :
一种超厚胶膜的平坦化处理方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110673445A
申请号 :
CN201910904894.X
公开(公告)日 :
2020-01-10
申请日 :
2019-09-24
授权号 :
CN110673445B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
郁发新冯光建高卫斌马飞程明芳
申请人 :
浙江集迈科微电子有限公司
申请人地址 :
浙江省湖州市长兴县经济技术开发区陈王路与太湖路交叉口长兴国家大学科技园二分部北园8号厂房
代理机构 :
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
董世博
优先权 :
CN201910904894.X
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  H01L21/56  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-05-17 :
授权
2020-02-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20190924
2020-01-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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