可双面观察的光学防伪元件

授权

摘要

本发明公开了一种光学防伪元件及其制造方法，属于光学防伪技术领域。所述光学防伪元件包括：第一起伏结构层；所述第一起伏结构层包括具有第一微结构的第一区域和具有第二微结构的第二区域，所述第一微结构的比体积小于所述第二微结构的比体积；所述第一起伏结构层一侧有依次层叠的第一镀层、第二起伏结构层和第二镀层；所述第一镀层和所述第二镀层均位于所述第一区域而不位于所述第二区域，且所述第一镀层和所述第二镀层至少局部具有不同的表面起伏形状。

基本信息

专利标题：

可双面观察的光学防伪元件

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112572017A

申请号：

CN201910932005.0

公开（公告）日：

2021-03-30

申请日：

2019-09-29

授权号：

CN112572017B

授权日：

2022-05-20

发明人：

胡春华朱军周赟封敏宇

申请人：

中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司

申请人地址：

北京市丰台区科学城星火路6号

代理机构：

北京润平知识产权代理有限公司

代理人：

肖冰滨

优先权：

CN201910932005.0

主分类号：

B42D25/328

IPC分类号：

B42D25/328 B42D25/45 B42D25/46 B42D25/47