光学系统和包括光学系统的成像装置
授权
摘要

公开了光学系统和包括光学系统的成像装置。在根据每个示例实施例的光学系统中,从无限远物体向近距离物体聚焦时相邻透镜单元之间的间隔变化,并且可以引起获得β=‑1.2的第一对焦状态,其中,β是整个系统的横向倍率。根据每个示例实施例的光学系统包括多个聚焦透镜单元,并且在焦点被放在无限远物体上的状态下具有最大的聚焦灵敏度绝对值的聚焦透镜单元和具有第二大的聚焦灵敏度绝对值的聚焦透镜单元中,被布置在物侧的聚焦透镜单元是透镜单元LA,并且被布置在像侧的聚焦透镜单元是透镜单元LB。包括被布置在透镜单元LB的像侧的所有透镜的部分光学系统LC具有负折光力。部分光学系统LC满足预定的条件表达式。

基本信息
专利标题 :
光学系统和包括光学系统的成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111045181A
申请号 :
CN201910976752.4
公开(公告)日 :
2020-04-21
申请日 :
2019-10-15
授权号 :
CN111045181B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
铃木匠
申请人 :
佳能株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
宋岩
优先权 :
CN201910976752.4
主分类号 :
G02B7/04
IPC分类号 :
G02B7/04  G03B13/34  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/02
用于透镜
G02B7/04
有聚焦或改变放大率的机构
法律状态
2022-04-19 :
授权
2020-11-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 7/04
申请日 : 20191015
2020-04-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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