离子交换膜和电解槽
授权
摘要
本发明涉及离子交换膜和电解槽。本发明的目的在于提供电解性能和气体区域损伤耐性这两者均优异的离子交换膜。一种离子交换膜，其具有：包含具有磺酸基的含氟聚合物的层A、以及包含具有羧酸基的含氟聚合物的层B，上述层B的厚度为5μm～30μm，上述层B的离子簇径为1.8nm～2.48nm。
基本信息
专利标题 ：
离子交换膜和电解槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111139498A
申请号 ：
CN201911050754.7
公开（公告）日 ：
2020-05-12
申请日 ：
2019-10-31
授权号 ：
CN111139498B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
中岛笃森川卓也
申请人 ：
旭化成株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李洋
优先权 ：
CN201911050754.7
主分类号 ：
C25B13/02
IPC分类号 ：
C25B13/02 C25B13/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B13/02
以形状或类型为特征的
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-06-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25B 13/02
申请日 : 20191031
申请日 : 20191031
2020-05-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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