均四甲苯低温液相连续氧化生产均苯四甲酸二酐的方法
授权
摘要
本发明公开了化工生产技术领域内的一种均四甲苯低温液相连续氧化生产均苯四甲酸二酐的方法，首先将均四甲苯、醋酸和钴‑锰‑溴‑锆‑胍催化剂的混合液连续打入氧化反应塔中，进液的同时向塔体内连续通入富氧气体，保持氧化反应塔内温度为200‑300℃，塔体内压力0.5‑3MPa，均四甲苯与氧气催化反应生成均苯四甲酸，生成的均苯四甲酸密度小而浮于液面上层；将均苯四甲酸含量高的液面上层液体抽出进行闪蒸，使轻组分蒸发，罐底获得均苯四甲酸粗品；均苯四甲酸粗品经重结晶、离心分离获得均苯四甲酸晶体，再经脱水得到均苯四甲酸二酐。催化剂中溴用量少，降低了设备的腐蚀；其工艺简单，易于实现，利于均苯四甲酸二酐的工业生产。
基本信息
专利标题 ：
均四甲苯低温液相连续氧化生产均苯四甲酸二酐的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110746435A
申请号 ：
CN201911052822.3
公开（公告）日 ：
2020-02-04
申请日 ：
2019-10-31
授权号 ：
CN110746435B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
曹正国
申请人 ：
曹正国
申请人地址 ：
上海市长宁区水城路675弄2号703室
代理机构 ：
南京苏科专利代理有限责任公司
代理人 ：
董旭东
优先权 ：
CN201911052822.3
主分类号 ：
C07D493/04
IPC分类号 ：
C07D493/04 B01J31/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D493/00
杂环化合物，在稠环系中含有氧原子作为仅有的杂环原子
C07D493/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D493/04
邻位稠合系
法律状态
2022-04-29 ：
授权
2020-02-28 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 493/04
申请日 : 20191031
申请日 : 20191031
2020-02-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
