一种蒸发源组件
授权
摘要
本发明公开了一种蒸发源组件，其由至少两个蒸发源组成，每个蒸发源包括本体和设置在本体上的喷嘴，其中至少一个所述的蒸发源的喷嘴上端面高于其它蒸发源的喷嘴上端面。本申请，可通过使蒸镀速率较小的喷嘴上端面所处高度高过蒸镀速率较大的喷嘴上端面所处高度，使速率较大的喷嘴气流协助速率较小的喷嘴气流的升华，从而促进不同材料气体的掺杂，提高掺杂材料的利用率，降低蒸镀成本。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸发源组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110791731A
申请号 ：
CN201911143930.1
公开（公告）日 ：
2020-02-14
申请日 ：
2019-11-20
授权号 ：
CN110791731B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
李志荣谢志生马亮
申请人 ：
信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请人地址 ：
四川省眉山市仁寿县文林工业园区
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
刘爱珍
优先权 ：
CN201911143930.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2020-03-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20191120
申请日 : 20191120
2020-02-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
