显示装置及其制造方法
授权
摘要
本发明提供一种显示装置及其制造方法。显示装置包括第一基板，具有多个像素单元；第二基板，具有图案化遮光层与色阻层，图案化遮光层包括第一开口、第二开口与第三开口，所述色阻层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，第一色阻、第二色阻以及第三色阻沿第一方向依次呈条状排列，其中，部分的第一色阻容纳于第一开口，部分的第二色阻容纳于第二开口，部分的第三色阻容纳于第三开口；一显示分子层，设置于第一基板和第二基板之间；其中，第一色阻、第二色阻以及第三色阻分别具有相对的一第一侧边和一第二侧边，且第一色阻、第二色阻以及第三色阻中之一的第一侧边的厚度与其他两色阻第一侧边的厚度不同。
基本信息
专利标题 ：
显示装置及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110989237A
申请号 ：
CN201911151771.X
公开（公告）日 ：
2020-04-10
申请日 ：
2019-11-21
授权号 ：
CN110989237B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
曾国瑞李姵珊
申请人 ：
友达光电(昆山)有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市经济技术开发区龙腾路6号
代理机构 ：
北京市立康律师事务所
代理人 ：
梁挥
优先权 ：
CN201911151771.X
主分类号 ：
G02F1/1335
IPC分类号 ：
G02F1/1335 G02F1/1333
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-05-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20191121
申请日 : 20191121
2020-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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