提高Ge-As-Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方...
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摘要

本发明公开了一种提高Ge‑As‑Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法,其包括以下步骤:第一步:研磨,研磨包括粗磨和精磨,通过粗磨对硫系玻璃光学表面进行初成形和面形修整,以达到指标要求;精磨采用化学机械研磨方法,进一步修整光学表面面形并降低表面粗糙度;第二步:抛光,抛光包括粗抛和精抛,通过粗抛对精磨面进行逐道抛光;精抛采用化学机械抛光方法,得到最终符合要求的硫系玻璃光学表面面形。本发明通过将粗磨、精磨、粗抛、精抛有序的结合起来,显著提高了硫系玻璃光学表面的加工效率和表面质量。

基本信息
专利标题 :
提高Ge-As-Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111015432A
申请号 :
CN201911169227.8
公开(公告)日 :
2020-04-17
申请日 :
2019-11-26
授权号 :
CN111015432B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
薛栋柏王朋矫灵艳李伟皓杨津
申请人 :
天津津航技术物理研究所
申请人地址 :
天津市东丽区空港经济区中环西路58号
代理机构 :
中国兵器工业集团公司专利中心
代理人 :
刘二格
优先权 :
CN201911169227.8
主分类号 :
B24B13/00
IPC分类号 :
B24B13/00  B24B37/04  C09G1/02  
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IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B13/00
为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件
法律状态
2022-04-01 :
授权
2020-05-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 13/00
申请日 : 20191126
2020-04-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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