双滑台同步缓冲机构和密封门装置
授权
摘要

本发明提供一种双滑台同步缓冲机构和密封门装置,包括:两个滑块和自适应调节结构;两个所述滑台分设于一操作对象相对的两侧,用于驱动所述操作对象往复运动;所述自适应调节结构设于一所述滑台上,并与所述滑台固定连接,所述自适应调节结构具有沿所述往复运动的方向的形变自由度,在滑台驱动所述操作对象做往复运动的过程中,当两个所述滑台因速度不同而导致不同步时,所述自适应调节结构通过往复运动方向上的形变来产生作用力作用于另一所述滑台上,以减小两个所述滑台的速度差,直至两个所述滑台同步,故而可以避免发生因不同步而导致滑台受损的情况。

基本信息
专利标题 :
双滑台同步缓冲机构和密封门装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112859527A
申请号 :
CN201911185482.1
公开(公告)日 :
2021-05-28
申请日 :
2019-11-27
授权号 :
CN112859527B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
刘凯王刚
申请人 :
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
王宏婧
优先权 :
CN201911185482.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-05 :
授权
2021-06-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20191127
2021-05-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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