一种双曲面幕墙的优化设计方法

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摘要

本发明公开了一种双曲面幕墙的优化设计方法，包括以下步骤：1)获取待优化的双曲面建筑表皮的三维模型；2)根据双曲面建筑表皮的三维模型的曲面形态构建轨迹线和断面线两条相交控制曲线，并根据这两条相交控制曲线建立参数化曲面模型；3)采用优化算法改变轨迹线和断面线的控制点坐标获得多个新曲面，通过计算新曲面与原曲面的偏离值，选出偏离值最小的新曲面作为最优曲面；4)提取原双曲面的边界线，沿最优曲面法向拉回到最优曲面后切割最优曲面，得到优化后的建筑表皮。本发明方法能快速有效的对待优化的双曲面进行优化处理，提高曲面质量，并能采用单曲面或是平面板块拟合双曲面建筑表皮，降低幕墙造价，具有较高的实用价值。

基本信息

专利标题：

一种双曲面幕墙的优化设计方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111008423A

申请号：

CN201911230348.9

公开（公告）日：

2020-04-14

申请日：

2019-12-04

授权号：

CN111008423B

授权日：

2022-06-10

发明人：

张慎李霆尹鹏飞辜文飞刘武程辉杨浩

申请人：

中南建筑设计院股份有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市武昌区中南二路

代理机构：

湖北武汉永嘉专利代理有限公司

代理人：

钟锋

优先权：

CN201911230348.9

主分类号：

G06F30/13

IPC分类号：

G06F30/13 G06T17/00