一种新型射流式碟片激光器晶体冷却装置
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摘要
本发明公开了一种新型射流式碟片激光器晶体冷却结构装置,装置包括:封盖、热沉、晶体、支撑环、梯形流道水循环结构、筒壁等结构。所述封盖、筒壁采用铜钨合金材料,与水循环直接接触的微小梯形流道材质选为304钢,将进、回水流道设计成相间形式的上矩形、下梯形截面,同时将热沉与进、回水流道之间留有一定距离的垂直冲击射流区域,这样不仅能破坏流体在流道中流动时形成的边界层,而且在射流区域流体直接高速冲击热沉后表面能够获得很薄的流动边界层从而加强了对流换热效应,提高激光器的晶体的冷却效率。本发明优势是采用内部带有梯形流道水循环结构消除了传统射流冷却系统中的湍流驻点,解决了大面积碟片晶体的均匀散热问题。
基本信息
专利标题 :
一种新型射流式碟片激光器晶体冷却装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112928584A
申请号 :
CN201911233064.5
公开(公告)日 :
2021-06-08
申请日 :
2019-12-05
授权号 :
CN112928584B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
李想李刚公发全刘锐金玉奇
申请人 :
中国科学院大连化学物理研究所
申请人地址 :
辽宁省大连市沙河口区中山路457-41号
代理机构 :
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 :
郑伟健
优先权 :
CN201911233064.5
主分类号 :
H01S3/04
IPC分类号 :
H01S3/04 H01S3/042
法律状态
2022-06-07 :
授权
2021-06-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 3/04
申请日 : 20191205
申请日 : 20191205
2021-06-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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