高精度微调控制标靶

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种高精度微调控制标靶，包括标靶底板，一级微调控制板，二级微调控制板，三级微调控制板，设于一级微调控制板上的一级调节区和用于调节二级微调控制板在一级调节区空间内移动的一级微调机构，设于二级微调控制板上的二级调节区和用于调节三级微调控制板在二级调节区空间内移动的二级微调机构，以及设于三级微调控制板上并与标靶底板相接的三级调节区；以所述一级微调机构和二级微调机构对二级微调控制板和三级微调控制板的调节移动使标靶底板在一级调节区内移动定位测量控制点。本实用新型调节精度高，能在各种复杂结构面上使用，给测量定位控制点提供了便利。

基本信息

专利标题：

高精度微调控制标靶

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920419203.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-03-29

授权号：

CN209432134U

授权日：

2019-09-24

发明人：

刘志强林峰杨勇高永德龚浏文

申请人：

中国建筑第八工程局有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区世纪大道1568号27层

代理机构：

成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

王育信

优先权：

CN201920419203.2

主分类号：

G01C15/00

IPC分类号：

G01C15/00