新型二维磁光阱的光机装置
授权
摘要
新型二维磁光阱的光机装置，安装平台上中部设置有二维磁光阱腔，位于二维磁光阱腔的右前侧设有一体化准直镜A，一体化准直镜A8出射的光斑穿过二维磁光阱腔的前后两侧矩形窗口照射在位于二维磁光阱腔后侧的第一45度高反镜组A，位于二维磁光阱腔前侧45度高反镜组A反射光出射方向依次设有四分之一波片A和零度高反镜A；位于二维磁光阱腔的右下方设有一体化准直镜B，一体化准直镜B出射的光斑穿过二维磁光阱腔的上下侧矩形窗口照射在位于二维磁光阱腔上方设的第一45度高反镜组B，位于二维磁光阱腔下方第一45度高反镜组B反射光出射方向依次设有四分之一波片B和零度高反镜B。
基本信息
专利标题 ：
新型二维磁光阱的光机装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920425605.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-03-29
授权号 ：
CN209803572U
授权日 ：
2019-12-17
发明人 ：
张辉王心亮施俊如白杨张首刚
申请人 ：
中国科学院国家授时中心;中国科学院大学
申请人地址 ：
陕西省西安市临潼区骊山街道办事处书院东路3号
代理机构 ：
西安永生专利代理有限责任公司
代理人 ：
郝燕燕
优先权 ：
CN201920425605.3
主分类号 ：
G04F5/14
IPC分类号 ：
G04F5/14 G02B27/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G04
测时学
G04F
时间间隔的测量
G04F5/00
产生用作定时标准的预选的时间间隔的仪器
G04F5/14
应用原子钟
法律状态
2019-12-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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