大容量真空控制装置
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摘要

本实用新型公开了一种大容量真空控制装置,其本体内具有一控气室,能用以供一真空发生二口二位阀与一真空破坏二口二位阀设置其中,且控气室连通至本体外部设置的一真空发生电磁阀与一真空破坏电磁阀,一气压源连通该控制室至该本体内的一进气室,一吸入口与一真空压力开关则连通至本体内的一流道配合一逆止阀至一吸气室,该进气室的侧壁设置二真空产生器贯穿一吸气室与一排气室,该排气室还设有一消音器形成一排出口,借该真空产生器并联让该吸入口的流量增加,利用该真空发生电磁阀与该真空破坏电磁阀各别控制真空发生与破坏,借以获得真空节能的效果,让吸入口能于吸附工件时,不需持续大量输入压缩空气,就能保持一定时间进行相对应的动作。

基本信息
专利标题 :
大容量真空控制装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920438155.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-02
授权号 :
CN210122973U
授权日 :
2020-03-03
发明人 :
游平政宇威寰
申请人 :
台湾气立股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新北市
代理机构 :
北京维澳专利代理有限公司
代理人 :
王立民
优先权 :
CN201920438155.1
主分类号 :
F04F5/22
IPC分类号 :
F04F5/22  F04F5/44  F04F5/52  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F04
液体变容式机械;液体泵或弹性流体泵
F04F
通过与别的流体直接接触或通过利用被泵送流体的惯性泵送流体
F04F
通过与别的流体直接接触或通过利用被泵送流体的惯性泵送流体
F04F5/00
喷射泵,即装置中的流体是因其他流体流动速度产生压降而引起的
F04F5/14
诱导流体是弹性流体
F04F5/16
排出弹性流体
F04F5/20
用于抽真空
F04F5/22
多级型的
法律状态
2020-03-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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