纳米微雕技术镭射防伪标志结构体及其首饰

授权

摘要

本实用新型公开了一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体及其首饰，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。该防伪标志结构体具有若干个用于反射镭射激光的点状体，其中若干个点状体能够以点成线、以线成面的方式形成特定图形，并以反射的方式展示在显示面上，达到防伪目的。

基本信息

专利标题：

纳米微雕技术镭射防伪标志结构体及其首饰

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920442283.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-01

授权号：

CN209785406U

授权日：

2019-12-13

发明人：

胡惠林海坤

申请人：

深圳圣世文化发展有限公司

申请人地址：

广东省深圳市罗湖区翠竹街道翠竹路旭飞华达园裙楼302-2

代理机构：

深圳市精英专利事务所

代理人：

钟火军

优先权：

CN201920442283.3

主分类号：

G09F3/02

IPC分类号：

G09F3/02