导光结构和显示器件
授权
摘要
本实用新型公开了一种导光结构和显示器件，涉及显示技术领域，主要目的是减少光在导光结构中传导过程中造成的损失，提高光的利用率。本实用新型的主要技术方案为：导光结构，包括：第一导光件和第二导光件，所述第一导光件上设置有第二导光件，所述第一导光件的折射率大于或小于所述第二导光件的折射率，所述第一导光件远离所述第二导光件的一侧为第一面，所述第一面间隔设置有多个第一网点，每个所述第一网点为朝向远离所述第二导光件方向设置的凸型网点。本实用新型提供的导光结构，入射光在进入导光结构后由于传导路径的改变，减少了光在导光结构中的反射次数和时间，从而减少了光在导光结构中传导过程中造成的损失，提高光的利用率。
基本信息
专利标题 ：
导光结构和显示器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920447212.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-03
授权号 ：
CN209514118U
授权日 ：
2019-10-18
发明人 ：
尤杨王瑞勇吴俊王慧娟吕振华曲连杰杨瑞智赵合彬
申请人 ：
北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区经海一路118号
代理机构 ：
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王伟锋
优先权 ：
CN201920447212.2
主分类号 ：
G02B6/00
IPC分类号 ：
G02B6/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
法律状态
2019-10-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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